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    エリック・J・キャッセル
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ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用 利用可

表面技術協会／編 -- コロナ社 -- 2016.12 -- 566.7

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 10 /566.7/ﾄﾗ/1139884 1111398847 閲可 貸可 協可 －

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タイトル ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
著者 表面技術協会 ／編  
出版地 東京
出版者 コロナ社
出版年 2016.12
ページ数 10,305p
大きさ 21cm
一般件名 金属表面処理 , 薄膜
内容紹介 「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。真空技術からプロセスモニター、炭素系薄膜まで、研究現場や製造現場で基礎技術をベースに的確にドライプロセスが実施できるよう、工夫して解説する。
ISBN13桁 978-4-339-04650-2 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 566.7

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