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はじめての半導体プロセス 利用可

前田 和夫／著 -- 技術評論社 -- 2011.8 -- 549.8

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 9 /549.8/ﾏｴ/1022989 1110229895 閲可 貸可 協可 －

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タイトル はじめての半導体プロセス
叢書名 現場の即戦力
著者 前田 和夫 ／著  
出版地 東京
出版者 技術評論社
出版年 2011.8
ページ数 12,291p
大きさ 21cm
版注記 工業調査会 2000年刊の再刊
一般件名 半導体
内容紹介 半導体デバイスの種類と構造、基本プロセス技術といった基礎知識から、VLSIデバイスの最先端分野の現状と課題まで、半導体製造技術のなかの半導体プロセスについて幅広く解説した入門書。
ISBN13桁 978-4-7741-4749-9 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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