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ナノインプリント技術および装置の開発 利用可

松井 真二／監修 -- シーエムシー出版 -- 2011.2 -- 549

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 9 /549/ﾅﾉ/1035452 1110354525 閲可 貸可 協可 －

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タイトル ナノインプリント技術および装置の開発
叢書名 [CMCテクニカルライブラリー]
著者 松井 真二 ／監修, 古室 昌徳 ／監修  
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版年 2011.2
ページ数 4,213p
大きさ 21cm
版注記 初版のタイトル:ナノインプリントの開発と応用
一般件名 ナノインプリント
内容紹介 低コストかつ高性能なナノ構造の転写を可能にするナノインプリント技術。その転写方式から、装置と関連部材、デバイス応用までを網羅し、詳しく解説する。
ISBN13桁 978-4-7813-0302-4 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549

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