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プロセスケミストリーの展開 利用可

日本プロセス化学会／監修 -- シーエムシー出版 -- 2007.12 -- 571.1

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 10 /571.1/ﾌﾛ/937211 1109372119 閲可 貸可 協可 －

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タイトル プロセスケミストリーの展開
叢書名 CMCテクニカルライブラリー
著者 日本プロセス化学会 ／監修  
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版年 2007.12
ページ数 7,290p
大きさ 21cm
版注記 初版のタイトル:プロセスケミストリーの新展開
一般件名 化学工学
内容紹介 新世紀をむかえて大きく発展しようとする、プロセスケミストリーの最近の成果と進展を概観。「日本プロセス化学会」が開催した研究会、シンポジウムや講演などをもとにまとめる。
ISBN13桁 978-4-88231-945-0 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 571.1

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
プロセス化学と戦略的原薬製造 鴻池 敏郎／著 3-14
メディシナルケミストとの連携 冨松 公典／著 15-23
有名反応のプロセス化学的評価 鳥澤 保廣／ほか著 24-44
触媒的不斉炭素-炭素結合形成反応 柴崎 正勝／著 45-54
有機リチウム反応剤のキラル配位子制御による不斉付加反応 富岡 清／著 55-70
環境調和型反応の開発 田辺 陽／著 71-89
パラジウム炭素を触媒とする鈴木-宮浦カップリング反応 西田 まゆみ／著 90-99
進化するBINAP化学 齊藤 隆夫／著 100-113
アルツハイマー型痴呆治療剤アリセプト重要中間体に関する新製造法 阿部 太一／著 114-128
新規脱アセチル化剤の開発 五島 俊介／著 129-144
ロボット合成 菅原 徹／著 145-159
マイクロリアクター 吉田 潤一／著 160-171
自動合成装置MEDLEY 大寺 純蔵／著 172-186
7-ニトロインドール類の工業的製造法の開発 藤林 良一／著 187-196
セフジトレンピボキシルの工業的製造法の開発 村井 安／著 197-208
インドロカルバゾール系抗腫瘍剤のプロセス研究 川崎 雅史／著 209-218
プロセス化学と生物変換技術 上田 誠／著 219-227
新規アデノシン拮抗剤FR120838の製造プロセス開発 橋本 典夫／著 228-237
ムスカリンM3受容体拮抗剤の製造プロセス開発 飯田 剛彦／著 238-252
抗高血圧薬塩酸エホニジピン原薬の製造研究 松本 浩郎／著 253-265
新光化学反応用紫外線照射装置を用いたビタミンD誘導体の合成 三上 哲弘／著 266-279
ノスカール錠用固体分散体の工業化 萩澤 稔／著 280-290

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