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    湯谷昇羊
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クラスターイオンビーム基礎と応用 利用可

山田 公／編著 -- 日刊工業新聞社 -- 2006.10 -- 549.1

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本館 書庫２上 Map B/549.1/ﾔﾏ/904734 1109047343 閲可 貸可 協可 －

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タイトル クラスターイオンビーム基礎と応用
副書名 次世代ナノ加工プロセス技術
著者 山田 公 ／編著  
出版地 東京
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2006.10
ページ数 11,223p
大きさ 21cm
一般件名 イオンビーム
内容紹介 クラスターイオンビーム技術は、数百から数千の原子の塊(クラスター)からなるイオンを高速で、固体の表面に衝突させて行う表面加工技術。その基礎現象とプロセス技術の応用例をふんだんに盛り込んだ一冊。
ISBN 4-526-05765-7 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.1

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