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プラズマ半導体プロセス工学 利用可

市川 幸美／共著 -- 内田老鶴圃 -- 2003.7 -- 549.8

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 9 /549.8/ｲﾁ/837542 1108375420 閲可 貸可 協可 －

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タイトル プラズマ半導体プロセス工学
副書名 成膜とエッチング入門
著者 市川 幸美 ／共著, 佐々木 敏明 ／共著, 堤井 信力 ／共著  
出版地 東京
出版者 内田老鶴圃
出版年 2003.7
ページ数 289p
大きさ 22cm
一般件名 半導体 , プラズマ物理学
内容紹介 プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説する。
ISBN 4-7536-5048-0 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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