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薄膜化技術 利用可

和佐 清孝／著 -- 共立出版 -- 2002.6 -- 549.8

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 9 /549.8/ﾜｻ/817014 1108170146 閲可 貸可 協可 －

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タイトル 薄膜化技術
著者 和佐 清孝 ／著, 早川 茂 ／著  
出版地 東京
出版者 共立出版
出版年 2002.6
ページ数 316p
大きさ 22cm
版表示 第3版
一般件名 薄膜
内容紹介 原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール素材・デバイス形成の要素技術であり、エレクトロニクスや環境技術分野で重要である。基礎科学的視点を追加し、最新のデータを増補した、92年刊に次ぐ第3版。
ISBN 4-320-08613-9 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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