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VLSIとCVD 利用可

前田 和夫／著 -- 槇書店 -- 1997.7 -- 549.7

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本館 書庫２上 Map B/549.8/ﾏｴ/732810 1107328102 閲可 貸可 協可 －

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タイトル VLSIとCVD
副書名 半導体デバイスへのCVD技術の応用
著者 前田 和夫 ／著  
出版地 東京
出版者 槇書店
出版年 1997.7
ページ数 396p
大きさ 22cm
一般件名 集積回路 , 化学蒸着
内容紹介 薄膜形成技術の中でも半導体デバイスへの応用に関して、中心的な役割を果たしてきたCVD(化学気相成長)技術について焦点をあて、実務的かつ技術論的に解説する。
ISBN 4-8375-0645-3 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.7

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