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    高分子文庫
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薄膜技術の新潮流 利用可

平尾 孝／[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1997.7 -- 549.8

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 ４階自然 Map 9 /549/ﾋﾗ/731421 1107314214 閲可 貸可 協可 －

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タイトル 薄膜技術の新潮流
副書名 多彩な新規応用をカバー
叢書名 ケイブックス
著者 平尾 孝 ／[ほか]共著  
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 1997.7
ページ数 258p
大きさ 19cm
一般件名 薄膜
内容紹介 半導体、ディスプレイ、記録などのキーデバイスにおける、薄膜形成や微細加工技術の進展と技術レベルが、コストや性能を決定する。薄膜、加工技術の基礎から応用まで、最新情報を踏まえて解説する。
ISBN 4-7693-1157-5 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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