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フォトマスク技術のはなし 利用可

田辺 功／[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1996.8 -- 549.7

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 書庫２上 Map B/549.8/ﾀﾅ/706865 1107068658 閲可 貸可 協可 －

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タイトル フォトマスク技術のはなし
副書名 超LSI、液晶、プリント板を支える
著者 田辺 功 ／[ほか]共著  
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 1996.8
ページ数 262p
大きさ 21cm
一般件名 リソグラフィー
内容紹介 フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。
ISBN 4-7693-1149-4 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.7

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