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イオン応用機器概論 利用可

磯部 昭二／[ほか]著 -- 開発社 -- 1994.3 -- 549.1

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本館 書庫２上 Map B/549/ｲｿ/651672 1106516725 閲可 貸可 協可 －

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タイトル イオン応用機器概論
著者 磯部 昭二 ／[ほか]著  
出版地 東京
出版者 開発社
出版年 1994.3
ページ数 135p
大きさ 22cm
一般注記 監修:岩木正哉
一般件名 イオンビーム
内容紹介 真空中でイオンを応用する機器の概論。内容は、半導体へのイオン注入、金属改質イオン注入、イオンプレーティング、ダイナミックミキシング、クラスターイオンビーム、イオンビームスパッタなどの薄膜形式など機器の側から概説したもの。
ISBN 4-7591-0086-5 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.1

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