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光励起プロセスの基礎 利用可

高橋 清／[ほか]編著 -- 工業調査会 -- 1994.3 -- 549.8

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本館 書庫２上 Map B/549/ﾀｶ/647850 1106478508 閲可 貸可 協可 －

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タイトル 光励起プロセスの基礎
副書名 プロセスの低温・無損傷化を実現
著者 高橋 清 ／[ほか]編著  
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 1994.3
ページ数 266p
大きさ 21cm
一般件名 半導体 , 光化学
内容紹介 1.光励起プロセスの概論 2.光励起プロセスの基礎 3.表面反応・気相反応の基礎過程 4.光励起プロセスによる膜形成の基礎過程 5.反応の診断・計測 6.光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス ほか3章<ソフトカバー>
ISBN 4-7693-1122-2 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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