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デバイスプロセス 利用可

河東田 隆／著 -- 培風館 -- 1993.1 -- 549.8

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所蔵館 場所 棚番号 請求記号 資料コード 貸出利用 状態
本館 書庫２上 Map B/549.8/ｶﾄ/621916 1106219168 閲可 貸可 協可 －

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タイトル デバイスプロセス
叢書名 電子・情報工学講座
著者 河東田 隆 ／著  
出版地 東京
出版者 培風館
出版年 1993.1
ページ数 228p
大きさ 22cm
一般件名 半導体
内容紹介 1.主な半導体デバイスの製作プロセス 2.バルク結晶の成長 3.エピタキシャル成長技術 4.ウエハの加工と表面処理 5.絶縁膜の形成 6.不純物拡散とイオン注入 7.微細パターンの形成 8.電極と配線の形成および実装 ほか6章
ISBN 4-563-03342-1 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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