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ここまできたイオン注入技術 利用可

布施 玄秀／編著 -- 工業調査会 -- 1991.6 -- 549.8

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本館 書庫２上 Map B/549.7/ﾌｾ/574261 1105742614 閲可 貸可 協可 －

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タイトル ここまできたイオン注入技術
副書名 超LSIプロセスのリード役
叢書名 ケイブックス
著者 布施 玄秀 ／編著, 平尾 孝 ／編著  
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 1991.6
ページ数 182p
大きさ 19cm
一般件名 半導体
内容紹介 超LSIを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。
ISBN 4-7693-6080-0 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
分類番号 549.8

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